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白光干涉儀是一款用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量的檢測儀器。它是以白光干涉技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進行數(shù)據(jù)處理與分析，并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數(shù)，從而實現(xiàn)器件表面形貌3D測量的光學檢測儀器。儀器可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領域中。...

3D劃痕儀使用了超新的劃痕頭和高分辨率的3D形貌儀，能夠讓用戶進行標準的劃痕測試，并在測試前后自動進行亞納米級的3D成像。劃痕試驗用于評估涂層和固體表面的粘附性和耐刮擦性。測試在受控的力下對樣品表面進行劃擦，劃痕頭在遞增、恒定或臺階增力的載荷下沿著樣品表面移動。通過檢測摩擦力、位移和聲發(fā)射等信號以及利用3D成像技術來檢測涂層破損。3D劃痕儀采用大速比大輸出扭矩齒輪減速箱，以保證在不同測試負載下劃針移動速度恒定，使測試結果具有較高的精度。本儀器目前可以做的是兩種底材的試驗。一種...

掩模對準曝光機又名光刻機，用光來制作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程。半導體制造過程中復雜也是難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為重要的半導體制造設備，研發(fā)的技術門檻和資金門檻非常高，是復雜的機器之一。掩模對準曝光機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動1、手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；2、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD...

隨著時代的進步，集成電路科技的進步與發(fā)展，對光刻工藝的精度提出了更高的要求。傳統(tǒng)的光刻工藝難以滿足如此的精度要求。接觸式光刻機性能的提高勢在必行。提高接觸式光刻機性能的關鍵技術：接觸式光刻機將圖形從掩模上復制到硅片上的若干參數(shù)決定了其主要性能。目前行業(yè)內被普遍接受的光刻機三大性能參數(shù)是光刻分辨率、套刻精度和產(chǎn)率。近年來，提高光刻機性能的新技術不斷涌現(xiàn)，光刻分辨率和套刻精度的提高推動光刻技術步入更小的節(jié)點，產(chǎn)率的提高為集成電路制造廠商帶來更高的經(jīng)濟利益。下面主要討論提高光刻機性...

三維形貌儀是一款光學表面形貌儀,非常適合對表面幾何形狀和表面紋理分析，以標準方案或定制性方案對二維形貌或三維形貌表面形貌和表面紋理，微米和納米形狀，圓盤，圓度，球度，臺階高度，距離，面積，角度和體積進行多范圍測量。三維形貌儀是采用先進的白光干涉掃描技術研制的納米量級形貌測量儀器，透過精密的掃描系統(tǒng)和解析算法，進行樣品表面微細形貌的量測與分析。表面顯微成像能力與高精度測量的結合，只需數(shù)秒鐘，就能觀測到表面的三維輪廓、臺階高度、表面紋理、微觀尺寸以及包含各類參數(shù)的測量結果。標準配...